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Deposizione chimica da fase vapore
Deposizione in fase di vapore di elementi chimici
Deposizione in fase vapore
IVPO
Processo di deposizione da fase vapore a tubo chiuso
Processo di deposizione interna da fase vapore
Processo di ossidazione in fase vapore interno

Übersetzung für "Processo di deposizione interna da fase vapore " (Italienisch → Deutsch) :

TERMINOLOGIE
processo di deposizione da fase vapore a tubo chiuso | processo di deposizione interna da fase vapore | processo di ossidazione in fase vapore interno | IVPO [Abbr.]

Innenbeschichtung durch das Gasphaseverfahren | Innenbeschichtung durch die Gasphase


deposizione chimica da fase vapore | deposizione in fase di vapore di elementi chimici | deposizione in fase vapore

chemische Abscheidung aus der Dampfphase | chemische Abscheidung aus der Gasfphase | chemische Beschichtung aus der Gasphase | chemische Dampfabscheidung | chemisches Abscheiden aus der Gasphase | chemisches Aufdampfen | CVD [Abbr.]


strato prodotto mediante deposizione chimica da fase vapore

durch chemisches Aufdampfen erzeugte Schicht
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
le quantità di ogni sostanza elencata nell’allegato I e, ove del caso, nell’allegato II che hanno immesso sul mercato dell’Unione, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l’esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione ...[+++]

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.


idrofluorocarburi forniti direttamente da un produttore o da un importatore a un’impresa che li utilizza per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori.

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet.


10. I gas fluorurati a effetto serra immessi in commercio ai fini dell’incisione di materiale semiconduttore o della pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori sono etichettati con l’indicazione che il contenuto del contenitore può unicamente essere impiegato a tal fine.

(10) Fluorierte Treibhausgase, die zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie in Verkehr gebracht werden, werden mit einer Kennzeichnung versehen, auf der angegeben ist, dass der Inhalt des Behälters nur zu diesem Zweck verwendet werden darf.


la quantità di ogni sostanza elencata nell’allegato I e, ove del caso, nell’allegato II che hanno importato nell’Unione, indicando le principali categorie di applicazione in cui la sostanza è utilizzata, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l’esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica d ...[+++]

die Menge jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in die Union eingeführt hat, unter Angabe der Hauptkategorien der Anwendungen, für die die Stoffe verwendet werden, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Zerstörung, für Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, zur Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.


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le quantità di ogni sostanza elencate nell'allegato I e, ove del caso, nell'allegato II che hanno immesso sul mercato dell'Unione, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l'esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione ...[+++]

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind ;


la quantità di ogni sostanza elencate nell'allegato I e, ove del caso, nell'allegato II che hanno importato nell'Unione, indicando le principali categorie di applicazione in cui la sostanza è utilizzata, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l'esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica d ...[+++]

die Menge jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in die Union eingeführt hat, unter Angabe der Hauptkategorien der Anwendungen, für die die Stoffe verwendet werden, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Zerstörung, für Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, zur Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind ;


idrofluorocarburi forniti direttamente da un produttore o da un importatore a un'impresa che li utilizza per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori;

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet;


10. I gas fluorurati a effetto serra immessi in commercio ai fini dell'incisione di materiale semiconduttore o della pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori sono etichettati con l'indicazione che il contenuto del contenitore può unicamente essere impiegato a tal fine.

10. Fluorierte Treibhausgase, die zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie in Verkehr gebracht werden, werden mit einer Kennzeichnung versehen, auf der angegeben ist, dass der Inhalt des Behälters nur zu diesem Zweck verwendet werden darf.


Ora che il processo di riforma economica e sociale interna in Cina entra nella sua fase più difficile, cominciano a manifestarsi le enormi sfide che la Cina dovrà affrontare negli anni a venire.

In China treten die wirtschaftlichen und sozialen Reformen nun in ihre schwierigste Phase ein, und die gigantischen Aufgaben der nächsten Jahre werden allmählich erkennbar.


misurazioni continue dei seguenti parametri di processo: temperatura vicino alla parete interna o in un altro punto rappresentativo della camera di combustione, secondo quanto autorizzato dall'autorità competente, concentrazione di ossigeno, pressione, temperatura e tenore di vapore acqueo degli scarichi gassosi;

kontinuierliche Messung folgender Betriebskenngrößen: Temperatur in der Nähe der Innenwand oder an einer anderen, von der zuständigen Behörde genehmigten repräsentativen Stelle des Brennraums, Sauerstoffkonzentration, Druck, Temperatur und Wasserdampfgehalt des Abgases;




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Date index: 2022-10-22
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